追殺台積電出狠招！ 三星新利器爆供應這大客戶

三星電子(Samsung)、台積電（TSMC）在先進製程之爭愈發激烈，韓媒上周先是揭露三星已經成功開發出業界首個3奈米製程，如今又再度爆料，三星僅8個月就研發出極紫外光（EUV）技術的6奈米製程，有望縮小與台積電差距。

韓媒《Business Korea》報導，三星電子副董事長李在鎔上周訪問位於南韓畿道華城的半導體研究中心，簡要介紹業界首個3奈米製程GAA（Gate-All-Around） 製程技術。

今(6)日消息透露，三星自2019年12月華城廠區開始量產6 奈米，一名公司高層表示，6奈米產品已經交付北美的客戶，有半導體專家觀察指出，6奈米應該是供應給高通使用。

在此之前，三星2019年4月開始生產7奈米產品，也就是說生產6奈米產品僅用8個月時間，與7奈米相比，6奈米產品改良半導體尺寸、功率和性能。

根據先前報導指出，三星5奈米編號為5LPE(5nm Low Power Early)，為三星7 奈米(7LPP)、第二代 6 奈米 (6LPP)之後的第三代改良版製程，5LPE較前一代製程25%，或在相同性能與電晶體密度，功耗降低20%，以及在相同功耗與電晶體，性能提高10%。

根據市調機構TrendForce 數據顯示，台積電在第四季晶圓代工市場取得52.7%市佔率的好成績，三星則是以17.8%居次。

拉開兩者市佔率差距的主要原因，就是三星在研發出16奈米、12奈米製程後，延遲於7奈米製程研發，台積電卻在這節點追上，並依靠先進製程以及高良率優勢，壟斷蘋果的行動處理器晶片供應。

三星打算利用EUV微影技術，在2030年超越台積電，計畫10年內投入1160億美元(約3.5兆元新台幣)，三星除了量產6奈米之外，預計在2020年上半年推出5奈米產品，若依照先前釋出消息，預計在2021年就能量產GAA 技術的3奈米製程。

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